Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники
Григорьев Ф.И.
Учебное пособие. Моск. гос. ин-т электроники и математики. М., 2006, 36с.В пособии изложены физические основы процессов ионно-плазменного нанесения тонких пленок. Рассмотрены разновидности процесса ионно-плазменного и плазмохимического нанесения пленок. Кратко рассмотрено ионно-лучевое осаждение металлических и алмазоподобных углеродных пленок.
Пособие предназначено для студентов специальности 200100 по дисциплине Физические основы ионно-плазменной технологии.
Пособие предназначено для студентов специальности 200100 по дисциплине Физические основы ионно-плазменной технологии.
Litres
Vuole aggiungere una libreria? Contattaci su support@z-lib.do
Converti i file
Più risultati di ricerca
Altri vantaggi 
![Арифов У. — Сорбционные процессы при взаимодействии заряженных частиц с поверхностями твердых тел [Текст]](https://s3proxy.cdn-zlib.se/covers200/collections/genesis/2e9e8b6f28ef6dd72e2c119f593d217e6217d542a35a6539e9b68c1d91570a4a.jpg)
![Волков А. В. — Исследование технологических режимов плазменного ионно-химического травления на установке "Caroline PE15" [Электронный ресурс] : электрон. учеб.-метод. пособие](https://s3proxy.cdn-zlib.se/covers200/collections/genesis/7fa6e8577e2919bd5ce04347042563ab0426524221475bcaecf0e6312df3610d.jpg)
